根據上交所上市審核委員會2023年第100次審議會議公告，深圳市龍圖光罩股份有限公司（以下簡稱「龍圖光罩」），於本周上會。
來源：上海證券交易所
龍圖光罩主營業務為半導體掩模版的研發、生產和銷售，是國內稀缺的獨立第三方半導體掩模版廠商。龍圖光罩緊跟國內特色工藝半導體發展路線，不斷進行技術攻關和產品疊代，其半導體掩模版工藝節點從1μm逐步提升至130nm，產品廣泛應用於功率半導體、MEMS傳感器、IC封裝、模擬IC等特色工藝半導體領域，終端應用涵蓋新能源、光伏發電、汽車電子、工業控制、無線通信、物聯網、消費電子等場景。
在當前貿易摩擦、半導體產業逆全球化的背景下，加速進口替代已上升到國家戰略高度。我國政府從財政、稅收、技術、人才、智慧財產權等多個方面對半導體產業及其關鍵材料給予了政策支持，為半導體行業創造了良好的經營環境，有力地推動了我國半導體行業的發展，這也為半導體細分領域掩模版行業帶來了良好的契機。
掩模版作為半導體產業的上游核心材料，技術壁壘高，國內自產率低，長期
依賴國外進口，第三方半導體掩模版市場主要被美國Photronics、日本Toppan、
日本DNP等國際掩模版巨頭所控制。
隨著新能源汽車、光伏發電、自動駕駛、物聯網等新一輪科技逐漸走向產業化，未來十年中國半導體行業尤其是特色工藝半導體有望迎來進口替代與成長的黃金時期。在貿易摩擦等宏觀環境不確定性增加的背景下，作為半導體核心原材料的國內半導體掩模版行業發展迎來了歷史性的機遇。
本次龍圖光罩IPO擬募資約6.63億元，在珠海市建立高端半導體晶片掩模版製造基地和研發中心，為實現130nm-65nm節點更高製程半導體掩模版的開發及產業化。
數據來源：龍圖光罩招股說明書
據龍圖光罩招股說明書披露，中國大陸第三方半導體掩模版生產企業主要集中在130nm及以上製程節點，130nm及以下製程節點掩模版仍嚴重依賴進口，國內供應還有較大缺口。
我國集成電路產業對發達經濟體依賴度較高，國產設備及材料尚無法滿足高端晶片設計及製造，導致國內企業雖有技術卻無法生產或擴產，限制了我國先進位程的突破。在更高製程上實現國產半導體掩模版的突破，亟需國內半導體掩模版廠商奮起直追。
（文章如有侵權請聯繫刪除）