據中國法院網消息，科創板首批上市公司之一的中微半導體設備（上海）有限公司與威科儀器有限公司存在行政專利糾紛。
根據法院起訴狀副本顯示，起訴方是威科儀器有限公司，就此前一項專利行證糾紛對國家知識產權局、中微公司發起行政專利訴訟。該案目前已被北京智慧財產權法院受理，法院將於2020年9月10日下午14時開庭審理此案。
截至發稿前，中微公司未對該案予以置評。
國際電子商情小編了解到，這起訴訟可以追溯到2017年的一起專利無效案。
2017年5月，中微半導體向國家知識產權局申請對威科儀器的專利進行無效宣告，而國家知識產權局於2017年9月開始審理，並於2018年1月決定由威科儀器申請的「通過化學汽相沉積在晶片上生長外延層的無基座式反應器（專利號 018225507.1）」發明專利無效。
而威科儀器對國家知識產權局審理的專利無效決定感到不滿，並向北京智慧財產權法院提起行政訴訟，該案於2018年被受理，定於2020年9月10日下午14時開庭審理。
據了解，「化學氣相沉積裝置」專利涉及的MOCVD裝置為生產半導體器件如發光二極體（LED）晶片的核心設備，占據半導體行業價值鏈的重要位置，對產業發展具有重要影響。
而中微半導體在2018年時也因為相關專利被其競爭對手之一——維易科精密儀器就該專利提出無效宣告請求。
2018年，維易科精密儀器國際貿易（上海）有限公司於2018年就專利權人中微半導體設備（上海）有限公司的實用新型專利權（專利號：ZL201220056049.5）提出的無效宣告請求，國家知識產權局原專利複審委員會經審理作出審查決定，在修改後的權利要求書的基礎上維持中微半導體專利權有效。
據悉，該設備包括旋轉的主軸和隨之轉動的托盤。在工作時，晶片放置在托盤上，並由托盤帶動其進行轉動，同時通過氣相沉積工藝在晶片表面沉積外延層。半導體晶片的高度精密性對於托盤轉動的平穩性和精度有著極高要求。涉案專利就是對於主軸和托盤之間連接方式的改進。