目前也是全球曝光机生产大厂之一的日本佳能 (Canon)，在2023年10月13日宣布推出FPA-1200NZ2C纳米压印（NIL）半导体制造设备之后，日前Canon首席执行官御手洗富士夫表示，该公司的新纳米压印技术将为小型半导体制造商生产先进芯片开辟一条道路，不让生产先进芯片的技术只有全球大型半导体制造商所独享。
Canon半导体设备业务部长岩本和德表示，纳米压印技术就是把印有半导体电路图的光罩压印到芯片上。在芯片上只压印1次，就可以在合适的位置形成复杂的2D或3D电路图。如果改进光罩，甚至可以生产2纳米先进制程的芯片。目前，Canon的纳米压印技术可以生产最小5纳米制程节点逻辑半导体。现阶段，5纳米制程的先进半导体制造设备市场由ASML的EUV曝光机所主导，Canon的纳米压印技术或许将有机会帮助Canon缩小其与ASML的差距。
在设备成本方面，岩本和德表示，客户的成本因条件而异，据估算一次压印工序需要的成本有时能降至传统曝光设备工序的一半。而且，因为纳米压印设备的规模较小，在研发等用途方面也容易引进。御手洗富士夫先前曾表示，该公司的纳米压印设备产品的价格将比ASML的EUV设备减少一个零。不过，当前设备的最终的定价还没有确认。
而在在客户方面，Canon表示目前收到了半导体厂商、大学、研究所的很多询问，以期待作为EUV设备的替代产品，使纳米压印设备备受期待。预计，该设备将可用于闪存、个人计算机用DRAM，以及逻辑等多种半导体生产用途上。
(首图来源：Canon)