來源：內容來自半導體行業觀察（ID：icbank）原創，作者：邱麗婷，謝謝！
半導體行業觀察訊，2021年1月16日，中國晶片公司CEO和頂尖投資機構合伙人面對面深度交流的年度高規格盛會——中國芯創年會 | China IC Conference在上海隆重舉行，第二屆中國芯創年會由摩爾精英主辦，雲岫資本和芯謀研究協辦。在會上，中國工程院院士、浙江大學微納電子學院院長吳漢明發表了名為《關於我國集成電路晶片製造的思考》的演講。
中國工程院院士、浙江大學微納電子學院院長吳漢明
在會上，吳院士指出，目前是發展半導體產業天時地利人和皆具的時機。最近三個月內，合肥以及上海等城市在發展建議座談會中，都將集成電路放在了首要發展的位置。
吳院士介紹道，從工藝流程看，集成電路的製造有三個階段。第一階段將沙子提煉出來，通過高溫變成單晶片；第二階段，把設計好的成千上萬個電晶體做到矽上去，也就是晶片製造的前道工藝，這是整個晶片製造的核心。第三階段就是後段封裝等。在這三個階段中，第一步成本非常低，相對成本1%左右，第二階段占了80%。還有封裝占大概19%。吳院士表示，從經費投資就能看出，前道工藝的發展和投資強度很大。
從生態鏈的角度看，集成電路分為四個部分：材料部分，設計部分，製造部分以及裝備部分。吳院士指出，在四個部分中，我國材料與裝備還處於相對較弱的階段。在製造方面，中芯國際作為我國龍頭企業，已經在國內技術發展中起到了一定作用。吳院士進一步說到，在晶片製造方面，光刻機是難度最大的一環，但技術的發展並不能僅靠光刻機，其中有很多綜合因素。
從整個晶片技術的發展歷程來看，近20年來，成功跨越的7個技術中，每一代都有一系列的核心技術需要突破。歸納為三個瓶頸：第一類材料瓶頸，第二類器件架構改變，第三類光刻極限技術被突破，這些突破使得摩爾定律在近20年中可以順利發展下來，而這些關鍵突破的很多成果是由基礎研究得到的，所以基礎研究對產業的支撐很重要。
我國的機遇在哪裡？吳院士指出，目前，全球形勢變化很快，可以說是百年未有之大變革。
首先，單一的先進的研發工藝將越走越艱難，因此我們必須要有一些特色工藝，包括新的架構等等。
其次，在當前安全不可預測的國際形勢下，我國以基本自主可控的裝備為主體做出55納米產品的意義遠大於使用全部進口裝備做產品。
再來，摩爾定律趨緩，目前晶片每年性能提升已經趨於飽和，這也給追趕者一個機會，再也不像以前發展那麼快了。
再看去年的銷售數據，去年全球晶片製造各個技術節點產能的份額，10nm技術節點以下的先進產能只有17%的份額，而市場83%的份額都是在10nm以上的節點，相對成熟的特殊工藝、市場空間、創新空間依然巨大，有很多機會，對我們中國的晶片製造行業是一個機會。
吳院士強調，做技術研發也需要注意一些事情：
首先，做技術研發必須要有產業引領，千萬不要把企業做成一個研究性的企業，光有新技術沒有產業支撐，這是一個很大的誤區。
其次，可以探索一條做集成電路建設新工科這個途徑，新引進、考核、晉升體系，產教融合特色的完整體系，開拓新型人才培養途徑，發揮與傳統工學院不同的國際方法。
還有就是國內的產業鏈應該有個支撐，為上下游企業（材料、裝備、晶片設計，特種工藝晶片）提供成套工藝驗證。