目前也是全球曝光機生產大廠之一的日本佳能 (Canon)，在2023年10月13日宣布推出FPA-1200NZ2C納米壓印（NIL）半導體製造設備之後，日前Canon執行長御手洗富士夫表示，該公司的新納米壓印技術將為小型半導體製造商生產先進晶片開闢一條道路，不讓生產先進晶片的技術只有全球大型半導體製造商所獨享。
Canon半導體設備業務部長岩本和德表示，納米壓印技術就是把印有半導體電路圖的光罩壓印到晶片上。在晶片上只壓印1次，就可以在合適的位置形成複雜的2D或3D電路圖。如果改進光罩，甚至可以生產2納米先進位程的晶片。目前，Canon的納米壓印技術可以生產最小5納米製程節點邏輯半導體。現階段，5納米製程的先進半導體製造設備市場由ASML的EUV曝光機所主導，Canon的納米壓印技術或許將有機會幫助Canon縮小其與ASML的差距。
在設備成本方面，岩本和德表示，客戶的成本因條件而異，據估算一次壓印工序需要的成本有時能降至傳統曝光設備工序的一半。而且，因為納米壓印設備的規模較小，在研發等用途方面也容易引進。御手洗富士夫先前曾表示，該公司的納米壓印設備產品的價格將比ASML的EUV設備減少一個零。不過，當前設備的最終的定價還沒有確認。
而在在客戶方面，Canon表示目前收到了半導體廠商、大學、研究所的很多詢問，以期待作為EUV設備的替代產品，使納米壓印設備備受期待。預計，該設備將可用於快閃記憶體、個人計算機用DRAM，以及邏輯等多種半導體生產用途上。
(首圖來源：Canon)
文章來源: https://twgreatdaily.com/zh/0aa32989498b07d4cac18ae546ca1941.html