俄羅斯自研光刻機目標:2024年量產350nm,2026年量產65nm!

2023-11-05     芯智訊

原標題:俄羅斯自研光刻機目標:2024年量產350nm,2026年量產65nm!

11月4日消息,根據俄羅斯媒體報道指出,俄羅斯本身正在研發生產晶片的光刻機。俄羅斯工業和貿易部副部長Vasily Shpak在接受媒體採訪時指出,2024年將開始生產350nm光刻機,2026年啟動用於生產130nm製程晶片的光刻機。光刻機的生產將在莫斯科、澤列諾格勒、聖彼得堡和新西伯利亞的現有工廠進行。

Vasily Shpak指出,光刻機對於半導體的生產極為重要,當前全球只有荷蘭ASML和日本Nikon這兩家公司能夠生產先進光刻機。一個簡單的邏輯就是,如果沒有半導體主權,那就沒有技術主權,這將導致國防安全和政治主權方面就非常脆弱。而現在俄羅斯已經掌握了使用國外國光刻機製造65nm晶片的技術,但因為外國公司被禁止向俄羅斯出口先進的光刻機,所以俄羅斯也正在積極開發自己的光刻機。

Vasily Shpak表示,2024年俄羅斯將撥款2,114億盧布(約合人民幣166.16億元)用於國內電子產品的開發,其將包括生產350nm製程晶片的光刻機,2026年將啟動用於生產130nm製程晶片的光刻機。而俄羅斯決定開發350nm到65nm光刻機的原因,在於這一技術範圍內的晶片多用於微控制器、電力電子、電信電路、汽車電子等方面上,這些應用大約占據了整個市場的60%。所以,這類光刻機在全世界市場的需求量很大,並且將在至少10年內有持續的需求。

另外,當被問到可能遭遇的阻力時,Vasily Shpak說,「我不想抱怨,所有的問題都不是問題,因為這關係到我們擁有哪些機會,以及所設定的目標。」

編輯:芯智訊-林子

文章來源: https://twgreatdaily.com/zh-sg/5dee7cde0243602511021f6b398a79e1.html