12月13日消息，光刻機大廠ASML宣布，已與韓國三星電子簽署備忘錄，將共同投資1萬億韓元在韓國建立研究中心，並將利用下一代極紫外（EUV）光刻機研究先進半導體製程技術。另外，ASML也宣布與SK海力士簽署ESG備忘錄，雙方在包括環境、社會和公司治理項目展開合作。
值得一提的是，上個月初有消息顯示，三星電子將在未來五年內從ASML採購50套設備，平均每套單價約為2,000億韓元（約合人民幣10.92億元），總價值可達10萬億韓元（約合人民幣546億元）。
三星電子於2022年6月底宣布量產了全球首個採用基於全環繞柵極（GAA）的3nm製程技術，使得該公司一直在努力確保能採購更多EUV光刻機，目標是使該公司能在2024年上半年進入第二代3nm製程技術之後，2025年量產2nm製程技術，並在2027年量產1.4nm製程。
正因如此，三星集團董事長李在鎔在2022年6月訪問了ASML總部，與ASML執行長Peter Bennink討論了EUV的採購問題，並在同年11月與訪問韓國的Peter Bennink進行了進一步會談。鑒於EUV光刻機從下訂到交貨的時間至少需要一年的情況下，當時的會面討論預計將幫助儘快拿到設備。
此外，根據ASML的計劃，其將在2023年底前發布首台商用High-NA（0.55 NA ）EUV光刻機，並在2025年量產出貨。這使得自2025年開始，客戶就能從數值孔徑為0.33傳統EUV多重圖案化，切換到數值孔徑為0.55 High-NA EUV單一圖案化，降低製程成本，提高產量。
目前，預估High-NA EUV光刻機將會有五大客戶，包括英特爾、台積電、三星、SK海力士、美光等。
編輯：芯智訊-林子