鍍膜靶材是通過磁控濺射、多弧離子鍍或其他類型的鍍膜系統在適當工藝條件下濺射在基板上形成各種功能薄膜的濺射源。靶材就是高速荷能粒子轟擊的目標材料，用於高能雷射武器中，不同功率密度、不同輸出波形、不同波長的雷射與不同的靶材相互作用時，會產生不同的殺傷破壞效應。例如：蒸發磁控濺射鍍膜是加熱蒸發鍍膜、鋁膜等。更換不同的靶材（如鋁、銅、不鏽鋼、鈦、鎳靶等），即可得到不同的膜系（如超硬、耐磨、防腐的合金膜等）。15302652247
靶材一般分類為金屬靶材、陶瓷靶材、合金靶材。應用領域： 靶材材料的技術發展趨勢與下游應用產業的薄膜技術發展趨勢息息相關，隨著應用產業在薄膜產品或元件上的技術改進，靶材技術也應隨之變化。主要應用於微電子領域、顯示器用、存儲。
靶材密度計
型號基礎參數：MAY-AE30
稱重範圍：0.1g-30kg
密度精度：0.001g/cm
密度範圍：0.001-99.999g/cm