鈦媒體App 10月30日消息，據ET News，有報道援引消息人士稱，三星電子將從ASML引進首台High-NA EUV光刻機EXE:5000，預計2025年初到貨。半導體設備安裝通常需要較長測試時間，該光刻機預計最快2025年中旬開始運行。High-NA EUV為2納米以下先進位程所需設備，韓國業界預期，三星也將正式啟動1納米晶片的商用化進程。 (財聯社)

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