根据日本媒体的报道，佳能面向半导体电路光刻工序推出了搭载自主研发的“纳米压印”技术设备，这套设备可以大幅降低成本以及耗电量，备受半导体厂商的期待，而且目前可以生产为2nm的产品。
根据佳能半导体机器业务部长岩本和德的介绍，纳米压印就是把半导体电路图的掩膜压印到晶圆上，在晶圆上只压印一次，就可以在合适的位置形成复杂的二维或者三维电路，如果改进掩膜，甚至可以生产2nm的产品。
纳米压印的特点是设备构造简单，相较于传统刻烧电路的方法，纳米压印的耗电量可降至1/10，设备价格也会便宜很多。据估算，纳米压印1次光刻工序需要的成本可以降至传统光刻设备的一半。
岩本和德还介绍，在2017年时，佳能便与铠侠、大日本印刷合作开发，纳米压印技术的量产用途的实用化已经有眉目，可以面向客户销售，另外纳米压印技术目前全球只有佳能在做，进入门槛也很高。
2000年左右，日本与尼康曾占据了世界光刻设备很大一部分市场，然而随着荷兰SAML开发出EUV光刻设备，市场随即被洗牌，EUV成为尖端半导体光刻的主流，佳能也流失了大部分市场。
如今佳能十年磨一剑推出纳米压印技术，有一种要重新夺回光刻市场的架势。不过目前ASML也已经向英特尔交付首台2nm EUV光刻机，短时间能佳能想要依靠纳米压印技术对抗ASML，或许希望并不大。