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光刻胶概况：

光刻胶又称光致抗蚀剂，是光刻工艺的关键化学品，主要利用光化学反应将所需要的微细图形从掩模版转移到待加工基片上，被广泛应用于光电信息产业的微细图形线路的加工制作，下游主要用于集成电路、面板和分立器件的微细加工，同时在 LED、光伏、磁头及精密传感器等制作过程中也有广泛应用，是微细加工技术的关键性材料。光刻胶的主要成分为树脂、单体、光引发剂及添加助剂四类。其中，树脂约占 50%，单体约占 35%。

光刻胶的分类：

光刻胶按显示的效果，可分为正性光刻胶和负性光刻胶，如果显影时未曝光部分溶解于显影液，形成的图形与掩膜版相反，称为负性光刻胶；如果显影时曝光部分溶解于显影液，形成的图形与掩膜版相同，称为正性光刻胶。

光刻胶经过几十年不断的发展和进步，应用领域不断扩大，衍生出非常多的种类， 按照应用领域，光刻胶可以划分为以下主要类型和品种。

光刻胶的市场需求：

在下游半导体、LCD、PCB 等行业需求持续扩大的拉动下，光刻胶市场将持续扩大。2018 年全球光刻胶市场规模为 85 亿美元，2014-2018 年复合增速约 5%。据 IHS， 未来光刻胶复合增速有望维持 5%。按照下游应用来看，目前半导体光刻胶占比 24.1%，LCD 光刻胶占比 26.6%， PCB 光刻胶占比 24.5%，其他类光刻胶占比 24.8%。伴随着全球半导体、液晶面板以及消费电子等产业向国内转移，国内对光刻胶需求量迅速增量。

2011-2017 年，国内光刻胶需求复合增速达 14.69%，至 2017 年底已达7.99 万吨；国内光刻胶市场规模复合增速达 11.59%，至 2017 年底已达 58.7 亿元。从产量来看，2017 年我国光刻胶产量达到 7.56 万吨，2011-2017 年复合增速 15.83%； 本土光刻胶产量达到 4.41 万吨，2011-2017 年复合增速 11.87%。国内目前光刻胶主要集中在 PCB 领域，高技术壁垒的 LCD 和半导体光刻胶主要依赖进口。

重点关注标的：雅克科技：

公司作为国内半导体新材料龙头企业，覆盖晶圆制造、面板制造等多个电子制造业领域，具体产品包括半导体前驱体材料、半导体浅沟槽隔离绝缘材料、电子特种气体、球形硅微粉等电子材料以及半导体和面板用液体化学品输送设备等耗材领域。此次收购LG 光刻胶业务，公司将进一步完善在电子材料业务的布局， 并与原有业务协同发展，打造新材料平台。

晶瑞股份：

i线半导体光刻胶龙头，未来重点发力 248nm。公司子公司苏州瑞红在光刻胶领域深耕多年，率先实现了i线光刻胶的量产，可以实现 0.35μm 的分辨率。公司未来重点发展 248nm，将着力发展相关业务。

飞凯材料：

积极推进 TFT 光刻胶。公司持续推进 TFT 光刻胶项目，截至 2019 年半年报已经累计投入 5407 万元，工程进度达 93.22%。公司积极进行外部合作，显著加快 TFT-LCD 行业光刻胶产品的市场开拓工作，尽快形成公司于TFT-LCD 行业新的利润增长极；

其他相关标的：鼎龙股份、昊华科技、南大光电、上海新阳、江丰电子

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