根据上交所上市审核委员会2023年第100次审议会议公告，深圳市龙图光罩股份有限公司（以下简称“龙图光罩”），于本周上会。
来源：上海证券交易所
龙图光罩主营业务为半导体掩模版的研发、生产和销售，是国内稀缺的独立第三方半导体掩模版厂商。龙图光罩紧跟国内特色工艺半导体发展路线，不断进行技术攻关和产品迭代，其半导体掩模版工艺节点从1μm逐步提升至130nm，产品广泛应用于功率半导体、MEMS传感器、IC封装、模拟IC等特色工艺半导体领域，终端应用涵盖新能源、光伏发电、汽车电子、工业控制、无线通信、物联网、消费电子等场景。
在当前贸易摩擦、半导体产业逆全球化的背景下，加速进口替代已上升到国家战略高度。我国政府从财政、税收、技术、人才、知识产权等多个方面对半导体产业及其关键材料给予了政策支持，为半导体行业创造了良好的经营环境，有力地推动了我国半导体行业的发展，这也为半导体细分领域掩模版行业带来了良好的契机。
掩模版作为半导体产业的上游核心材料，技术壁垒高，国内自产率低，长期
依赖国外进口，第三方半导体掩模版市场主要被美国Photronics、日本Toppan、
日本DNP等国际掩模版巨头所控制。
随着新能源汽车、光伏发电、自动驾驶、物联网等新一轮科技逐渐走向产业化，未来十年中国半导体行业尤其是特色工艺半导体有望迎来进口替代与成长的黄金时期。在贸易摩擦等宏观环境不确定性增加的背景下，作为半导体核心原材料的国内半导体掩模版行业发展迎来了历史性的机遇。
本次龙图光罩IPO拟募资约6.63亿元，在珠海市建立高端半导体芯片掩模版制造基地和研发中心，为实现130nm-65nm节点更高制程半导体掩模版的开发及产业化。
数据来源：龙图光罩招股说明书
据龙图光罩招股说明书披露，中国大陆第三方半导体掩模版生产企业主要集中在130nm及以上制程节点，130nm及以下制程节点掩模版仍严重依赖进口，国内供应还有较大缺口。
我国集成电路产业对发达经济体依赖度较高，国产设备及材料尚无法满足高端芯片设计及制造，导致国内企业虽有技术却无法生产或扩产，限制了我国先进制程的突破。在更高制程上实现国产半导体掩模版的突破，亟需国内半导体掩模版厂商奋起直追。
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