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光刻膠概況：
光刻膠又稱光致抗蝕劑，是光刻工藝的關鍵化學品，主要利用光化學反應將所需要的微細圖形從掩模版轉移到待加工基片上，被廣泛應用於光電信息產業的微細圖形線路的加工製作，下游主要用於集成電路、面板和分立器件的微細加工，同時在 LED、光伏、磁頭及精密傳感器等製作過程中也有廣泛應用，是微細加工技術的關鍵性材料。光刻膠的主要成分為樹脂、單體、光引發劑及添加助劑四類。其中，樹脂約占 50%，單體約占 35%。
光刻膠的分類：
光刻膠按顯示的效果，可分為正性光刻膠和負性光刻膠，如果顯影時未曝光部分溶解於顯影液，形成的圖形與掩膜版相反，稱為負性光刻膠；如果顯影時曝光部分溶解於顯影液，形成的圖形與掩膜版相同，稱為正性光刻膠。
光刻膠經過幾十年不斷的發展和進步，應用領域不斷擴大，衍生出非常多的種類， 按照應用領域，光刻膠可以劃分為以下主要類型和品種。
光刻膠的市場需求：
在下游半導體、LCD、PCB 等行業需求持續擴大的拉動下，光刻膠市場將持續擴大。2018 年全球光刻膠市場規模為 85 億美元，2014-2018 年復合增速約 5%。據 IHS， 未來光刻膠復合增速有望維持 5%。按照下游應用來看，目前半導體光刻膠占比 24.1%，LCD 光刻膠占比 26.6%， PCB 光刻膠占比 24.5%，其他類光刻膠占比 24.8%。伴隨著全球半導體、液晶面板以及消費電子等產業向國內轉移，國內對光刻膠需求量迅速增量。
2011-2017 年，國內光刻膠需求復合增速達 14.69%，至 2017 年底已達7.99 萬噸；國內光刻膠市場規模復合增速達 11.59%，至 2017 年底已達 58.7 億元。從產量來看，2017 年我國光刻膠產量達到 7.56 萬噸，2011-2017 年復合增速 15.83%； 本土光刻膠產量達到 4.41 萬噸，2011-2017 年復合增速 11.87%。國內目前光刻膠主要集中在 PCB 領域，高技術壁壘的 LCD 和半導體光刻膠主要依賴進口。
重點關註標的：雅克科技：
公司作為國內半導體新材料龍頭企業，覆蓋晶圓製造、面板製造等多個電子製造業領域，具體產品包括半導體前驅體材料、半導體淺溝槽隔離絕緣材料、電子特種氣體、球形矽微粉等電子材料以及半導體和面板用液體化學品輸送設備等耗材領域。此次收購LG 光刻膠業務，公司將進一步完善在電子材料業務的布局， 並與原有業務協同發展，打造新材料平台。
晶瑞股份：
i線半導體光刻膠龍頭，未來重點發力 248nm。公司子公司蘇州瑞紅在光刻膠領域深耕多年，率先實現了i線光刻膠的量產，可以實現 0.35μm 的解析度。公司未來重點發展 248nm，將著力發展相關業務。
飛凱材料：
積極推進 TFT 光刻膠。公司持續推進 TFT 光刻膠項目，截至 2019 年半年報已經累計投入 5407 萬元，工程進度達 93.22%。公司積極進行外部合作，顯著加快 TFT-LCD 行業光刻膠產品的市場開拓工作，儘快形成公司於TFT-LCD 行業新的利潤增長極；
其他相關標的：鼎龍股份、昊華科技、南大光電、上海新陽、江豐電子
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