世界電子行業的發展史也同時是一部產業轉移史，PCB、顯示面板、半導體都有相似的經歷，起源於美國、成熟於日本，部分領域又被韓國和台灣反超，最終輪到了中國大陸。
這種產業轉移的路徑，跟時代的變化和科技發展的趨勢有關，又與當地經濟崛起有關，還與當地政府、當地民眾有關。
一個地區的經濟崛起，往往得益於世界科技的革新浪潮，並在當地政府決策之下，高度聚焦，全民攻關新興產業及高端產業，結合了民眾對財富的渴望、強烈的上進心，如此方能順利跨過中等收入陷阱，闖進已開發國家的陣營。
日本、韓國的發展過程，與中國是何其相似。
但奇怪的是，這種產業轉移並不全面，特別是關鍵原材料領域，韓國和台灣都能把集成電路領域的硬骨頭啃下來，小小一個光刻膠卻不能自給自足，這又是為何？
根本原因在於，製造合格光刻膠的多重壁壘——技術壁壘、資金壁壘、客戶壁壘。
1）技術壁壘
由於用於微米級甚至納米級圖形加工，產品需要嚴格控制質量，光刻膠及其專用化學品的化學結構特殊、品質要求高、微粒子及金屬離子含量極低、生產工藝複雜，因此技術門檻不是一般的高。
例如在集成電路領域，其中有一項步驟是將光刻膠滴至矽晶圓的圓心上，通過高速轉動矽晶圓，讓圓心內的液體膠均勻塗覆在矽晶圓上。
這個過程中，矽晶圓上膠的厚度差值不能超過5nm（納米），如此極限的差值自然需要對膠的調製有極細緻的要求。
另外，光刻膠的品質，會影響對比度數值，對比度越高，形成圖形的側壁越陡峭，質量越好。
不同對比度下的光刻效果：
還有，光刻膠需要在解析度、粘滯性黏度、敏感度、抗蝕性、表面張力、存儲和傳送等方面都有極細緻的要求，具體數值精確至納米級別，組成成分精確至分子，可見其難度之大。
光刻膠在集成電路的應用等級，分為普通寬普光刻膠、g 線（436nm）、i 線（365nm）、KrF（248nm）、 ArF（193nm）、F2（157nm），以及最先進的 EUV(<13.5nm)線水平。
等級越往上其極限解析度越高，同一面積的矽晶圓布線密度就越大，性能越好。
目前全球僅有美國、日本的企業能夠達到ArF及以上的技術水平，亞洲其他地區包括中國均無量產能力。
2）資金壁壘
光刻膠研發需要有配套的光刻機、掩膜板及其他工藝。
要知道，全球最先進的光刻機是EUV光刻機，國際上只有荷蘭ASML公司可以製造，一台EUV光刻機價值1億美元，且供不應求，製程相對較差的DUV光刻機其價格也在數千萬美元。
雖然國內還達不到研究EUV、DUV光刻膠的研製能力，但想要研製更先進的光刻膠，那後續投入的資金規模將相當的大。
除了配套設備需要花錢，人才的聘請也需要大量的資金。這兩樣都有共同的特點，先進的光刻設備價錢極高、高端人才的薪資也非常高，但都是供不應求，市場稀缺的。
3）客戶壁壘
當光刻膠達到要求的技術水平後，需要與下遊客戶聯繫，客戶同意後要進行測試，這個檢測、驗證的過程一般長達2-3年，一旦合作，便會形成長期供應關係，有新的工藝技術便會聯合研發，關係非常密切。
假如光刻膠成本占下遊客戶總體成本比重很大，那麼為了追求效益，下遊客戶會較為積極主動要求測試，但光刻膠占總體成本比例很小，而下遊客戶安排測試的時間長達2-3年，在這麼長時間內，需要安排人員跟蹤、產線配合，驗證成本太高。
且下遊客戶已與其現有供應商擁有良好的配合，雙方合作多年，對方的工作流程、研發流程等都非常熟悉，貿然與一家新的供應商合作，雙方則有許多地方需要重新磨合，影響工作效率。
最重要的是，光刻膠對最終產品品質有巨大的影響，如果不是特別的原因，使用原有供應商的產品，其品質基本能夠得到保障。
因此，一般下遊客戶與原有供應商形成穩定的合作關係後，便會長期合作下去。
你看，光刻膠技術難度大，開發需要較大的資金成本、時間成本、人力成本；
且即便研發成功，下遊客戶需要經歷長時間的認證及承擔相應的成本，還要承擔因膠水質量問題所產生一系列問題的後果；
而光刻膠成本又低，那麼下遊客戶更換供應商的理由，可以說是很難下得了決心的。
因此一旦成為某一企業供應商，只要自身產品不出問題，且研發跟得上，基本上不用擔心客戶「變心」。
另一方面，追趕者如果產品停留在研發、測試階段，後面就會面臨著巨大的鴻溝差距。
因為光刻膠只有在應用過程中才能發現問題，解決問題，才能做到不斷提升技術、工藝與產品水平，否則的話就會一直停留在實驗室的狀態，技術停滯不前。
這也是為什麼，韓國及台灣地區在半導體領域及其他領域做到了世界頂尖水平，但卻看不到其在關鍵高端原材料領域的身影。
其實，以他們所達到的技術水平，是完全有能力攻克的，但因為擔心使用國內廠商的膠水而產生的品質問題及經濟效益問題，早早的就主動放棄了在這方面的投入和關注。
而且他們天真的相信，在市場經濟下，政府不會幹預企業的運作，原材料的供給不可能受阻，因此也就不需要自己花費巨大精力去搞研發。
但事實終於證明，這只不過是資本主義市場的自我宣傳和美化罷了。
從壁壘角度來看，原材料的研發和應用跟不上，中國這麼龐大的產業轉移之路終究會受制於人。
那麼說白了，就是「伸出脖子等別人磨好刀」？
非也。
據聯合國調查統計，我國擁有39個工業大類，191個中類，525個小類，是全世界唯一擁有聯合國產業分類中全部工業門類的國家。
可以這麼說，世界上的東西，幾乎沒有什麼是中國不能造的，只不過質量高低、好壞的問題。
光刻膠也是一樣的，中國在光刻膠領域屬於低端產品，也有涉獵中端產品研發和生產，但國內的下游企業都不願意使用，基本依靠進口。
但是自「毛衣戰」以來，中國半導體產業及上下游已經達成一個共識——「能使用國產的，就儘量使用國產的」。
雖然這點沒有在媒體公開宣傳，但通過上市公司年報、以及國內企業被制裁後的反應所推測，這點在業內已基本成為了未公開的共識。
加之目前，國內光刻膠在技術上有所突破，下游廠商也積極安排檢驗及測試，隨著測試的通過，與企業形成穩定合作，擁有穩定現金流後，配合國家大力支持，將不斷向最前沿技術推進。
註：文章內容轉自君臨