集微網消息（文/小山）昨（20）日，三星電子副會長李在鎔視察了該公司首條基於極紫外光刻(EUV)技術的晶圓生產線V1。期間，李在鎔再次明確，將在2030年使三星電子成為邏輯晶片領域的世界第一。
據BusinessKorea報道，三星電子指出，李在鎔在昨日參觀了該工廠的EUV生產線後，與DS業務部門的總裁進行了實地會晤。三星設備解決方案部門（DS）包括半導體和顯示器兩大重要產品線，此次會晤似乎也顯示出李在鎔勢在必得的決心。
據了解，V1產線於2018年2月動工，投資約60億美元，若未來全線建成，預計總投資將達到20萬億韓元。
「V1包含了紫外光線（Ultra Violet）和勝利（Victory）的意思，」三星電子的一位高管稱。「我們計劃根據未來的市場情況對V1線進行額外投資。」
與此同時，三星電子判斷，掌握EUV工藝對於緊跟台積電至關重要。因為利用短波紫外線光源在晶圓上雕刻半導體電路，與ArF方法相比，先進的工藝可以製造出更精細的電路，適用於10納米以下的超精細工藝，是製備高性能、低功耗半導體的關鍵。
在三星電子該條V1產線上，除了生產7納米晶片外，還將生產5納米和3納米半導體。據悉，從2月初開始量產的7納米產品將於3月份交付全球客戶。
李在鎔當天還對員工們表示，「去年，我們播下了成為系統半導體龍頭的目標的種子，而今天，我們率先實現了這一目標。」 （校對/ Jurnan ）